レジスト用化合物及び感放射線性組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-360717
公開番号（公開出願番号）：特開2006-169137
出願日： 2004年12月14日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 i線、g線等の紫外線のみならず、KrF等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線(EUV),X線等の放射線にも利用できるレジスト用化合物及び感放射線性組成物を提供する。簡単な製造工程で高感度、高解像度、高耐熱性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性レジストを提供する。【解決手段】特定の化学構造式で示される化合物、及び該化合物と酸発生剤を含む感放射線性組成物。【選択図】無

請求項（抜粋）：

式(1)で示される化合物。

IPC (4件)：

C07C 39/15 , C07C 43/23 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (4件)：

C07C39/15 , C07C43/23 C , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (22件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA10 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB92 , 4H006FC50 , 4H006FE13 , 4H006GP01 , 4H006GP03

引用特許：

出願人引用 (21件)

フラーレン含有レジスト材料を用いたデバイス作製プロセス
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-051493 出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
感放射線性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-292672 出願人：城田靖彦, ジェイエスアール株式会社
感放射線性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-292673 出願人：城田靖彦, ジェイエスアール株式会社

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審査官引用 (4件)

感放射線性ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-010298 出願人：富士写真フイルム株式会社
ネガ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-121049 出願人：三菱化学株式会社
感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-007250 出願人：株式会社日立製作所

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