特許
J-GLOBAL ID：201703010172522916

インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法。

発明者：
塩出 吉宏

塩出 吉宏 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  大塚 康弘 ,  高柳 司郎 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-087383
公開番号（公開出願番号）：特開2017-199730
出願日： 2016年04月25日
公開日（公表日）： 2017年11月02日
要約：
【課題】モールドと基板上のインプリント材との接触時に生じるモーメントを低減させるために有利な技術を提供する。【解決手段】パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板上のインプリント材に当該パターンを転写するインプリント装置は、前記パターン領域を変形させる変形部と、前記変形部により前記パターン領域を変形させて前記モールドとインプリント材とを接触させる処理を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記モールドと基板との相対傾きと、前記モールドとインプリント材との接触時に当該相対傾きを変動させるモーメントとの関係を示す情報に基づいて、前記モールドとインプリント材との接触時に生じるモーメントが許容範囲に収まるときの前記モールドと基板との目標相対傾きを決定し、前記モールドと基板との相対傾きを当該目標相対傾きにしてから前記モールドとインプリント材との接触を開始させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたパターン領域を有するモールドを用いて、基板上のインプリント材に当該パターンを転写するインプリント装置であって、 基板に向かって突出した凸形状に前記パターン領域を変形させる変形部と、 前記変形部により前記パターン領域を変形させて前記モールドとインプリント材とを接触させる処理を制御する制御部と、 を含み、 前記制御部は、前記モールドと基板との相対傾きと、前記モールドとインプリント材との接触時に当該相対傾きを変動させるモーメントとの関係を示す情報に基づいて、前記モールドとインプリント材との接触時に生じるモーメントが許容範囲に収まるときの前記モールドと基板との目標相対傾きを決定し、前記モールドと基板との相対傾きを当該目標相対傾きにしてから前記モールドとインプリント材との接触を開始させる、ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B81C 1/00
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B81C1/00
Fターム (25件)：
3C081AA17 ,  3C081CA02 ,  3C081CA37 ,  3C081DA02 ,  3C081DA03 ,  3C081DA06 ,  3C081DA07 ,  3C081DA10 ,  3C081DA11 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AR07 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146DA30
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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