特許
J-GLOBAL ID：201703020003764957
皮膜形成装置及び皮膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
グローバル・アイピー東京特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-218817
公開番号（公開出願番号）：特開2015-081358
特許番号：特許第6104126号
出願日： 2013年10月22日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 プラズマを用いて処理対象部材の表面に皮膜を形成する皮膜形成装置であって、
処理対象部材を配置した処理空間を囲む処理容器と、
前記処理容器内にレーザ光を照射するレーザ光源部と、
前記処理容器内に設けられ、前記レーザ光の照射を受けることにより処理空間に皮膜成分の粒子を放出する固体の原料ターゲット材と、
前記処理容器の外面上に設けられ、電力の供給を受けることにより、前記皮膜成分の粒子の一部をイオンにするプラズマを前記処理空間内に生成するプラズマ生成素子と、
前記処理対象部材の表面に前記イオンを注入するために、前記処理対象部材にパルス電圧を印加するパルス電圧供給部と、を備え、
前記プラズマ生成素子は、板状部材であって、一方の端から電力が供給され、他方の端が接地された電極板であり、電極板の主表面が前記処理空間に向くように前記処理容器の外面上に設けられている、ことを特徴とする皮膜形成装置。
IPC (5件)：
C23C 14/22 ( 200 6.01)
, C23C 14/06 ( 200 6.01)
, C23C 16/27 ( 200 6.01)
, C23C 16/505 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
C23C 14/22 A
, C23C 14/06 F
, C23C 16/27
, C23C 16/505
, C23C 16/455
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (17件)
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