特許
J-GLOBAL ID：201803002616680038
インプリントリソグラフィー用のシームレスな大面積マスターテンプレートの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-547570
特許番号：特許第6324318号
出願日： 2012年12月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を提供するステップと、
前記基板上に複数のパターン化されたフィールドを作ることによって、前記基板上に所望の長さ及び幅のグレーティングを有するパターン化層を形成するステップとを含み、
前記複数のパターン化されたフィールドを作ることは、光学リソグラフィーステップによって各フィールドを作るために、10nm未満のフィールド配置精度の光学スキャナーと、暗視野マスクを使用するステップを更に含み、
前記暗視野マスクは、光学的作用を修正するために、所望の長さ及び幅より大きい長さおよび幅を有する1つ以上のグレーティングを更に含み、隣接するフィールドパターンのインタフェース上の欠損部が1μm未満であるように、1つ又は複数の前記パターン化されたフィールドは、光学的作用を修正するために、x及び/またはyの方向にオフセットされ、
前記基板上にパターン化されたフィーチャー領域を形成するために、前記基板にパターンを転写し、残ったパターン化層のいずれも除去するステップとを備えることを特徴とするインプリントリソグラフィーテンプレートを形成する方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G02B 5/30 ( 200 6.01)
H01L 21/30 502 D
, G02B 5/30
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (10件)
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