特許
J-GLOBAL ID:201803017712650503
流体の処理のための装置及びその使用
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
▲吉▼川 俊雄
, 市川 寛奈
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-530343
公開番号(公開出願番号):特表2018-532568
出願日: 2016年05月05日
公開日(公表日): 2018年11月08日
要約:
流体の処理のための装置は、フロースルーハウジング(1)と、カバー(2)と、入口(3)と、内壁(5)を有するリアクタチャンバ(4)と、出口(6)と、リアクタチャンバ(4)に向けられるUV LED放射源(7)と、電源装置とを備え、高い浄化性能を実現し、設置空間は小さくなり、電力をほとんど必要としないが、それは流れに関連する設計が行われている内部空間を備えるリアクタチャンバ(4)によって実現され、放射源(7)は内壁(5)上または内壁(5)内の流体内に配置され、流れに関連する設計によってその中を流れる流体回転流体渦(8)が伝えられ、放射源(7)は外側から内向きに半径方向に、前記流体渦上へ横に放射できるように向けられ、流体渦(8)の流体の少なくとも部分ストリームはリアクタチャンバ(4)を出る前に放射源(7)の側を何度も通過する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
カバー(2;12)を有するフロースルーハウジング(1;11)と、
入口(3;13)と、
内壁(5;15)を有するリアクタチャンバ(4;14)と、
出口(6;16)と、
前記リアクタチャンバ(4;14)に向けられるUV LED放射源(7)と、
前記UV LED放射源(7)のための電源装置と
を備え、
前記リアクタチャンバ(4;14)がそれを囲む内壁(5;15)を有する自由内部空間で構成されて、流れに関連する設計が行われ、
前記放射源(7)が内壁(5;15)上または内壁(5;15)内の流体内に配置されて、前記流れに関連する設計によってその中を流れる流体に回転流体渦(8;18)が伝えられ、
前記放射源(7)が、外側から内向きに半径方向に及び/または前記流体渦上へ横に放射できるように向けられ、
前記流体渦(8;18)の前記流体の少なくとも部分ストリームが、前記リアクタチャンバ(4;14)を出る前に、前記放射源(7)のそばを何度も通過できる、ことを特徴とする、液体またはガスなどの流体の処理のための装置。
IPC (7件):
B01J 19/12
, C02F 1/32
, C02F 1/28
, C02F 1/42
, C02F 1/72
, C02F 1/78
, C02F 1/50
FI (18件):
B01J19/12 C
, C02F1/32
, C02F1/28 D
, C02F1/42 A
, C02F1/72 Z
, C02F1/78
, C02F1/50 510A
, C02F1/50 520B
, C02F1/50 520P
, C02F1/50 531Q
, C02F1/50 531R
, C02F1/50 550B
, C02F1/50 550H
, C02F1/50 550L
, C02F1/50 560B
, C02F1/50 560C
, C02F1/50 560D
, C02F1/50 560Z
Fターム (59件):
4D025AA01
, 4D025AA09
, 4D025BB11
, 4D025DA03
, 4D025DA04
, 4D025DA08
, 4D025DA10
, 4D037AA01
, 4D037AA11
, 4D037AB03
, 4D037BA18
, 4D037BB01
, 4D037BB02
, 4D037CA01
, 4D037CA02
, 4D037CA11
, 4D037CA12
, 4D037CA15
, 4D050AA01
, 4D050AA12
, 4D050AA15
, 4D050AB06
, 4D050BB02
, 4D050BB09
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4D050CA07
, 4D050CA08
, 4D050CA09
, 4D050CA15
, 4D624AA01
, 4D624AA04
, 4D624BA02
, 4D624CA01
, 4D624DB03
, 4D624DB10
, 4D624DB19
, 4D624DB23
, 4D624DB24
, 4G075AA03
, 4G075AA13
, 4G075AA15
, 4G075AA65
, 4G075BB10
, 4G075CA33
, 4G075CA54
, 4G075CA55
, 4G075CA57
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EB31
, 4G075EC06
, 4G075EC09
, 4G075FB02
, 4G075FB03
, 4G075FB12
, 4G075FC02
引用特許:
出願人引用 (9件)
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紫外線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-149736
出願人:ハリソン東芝ライティング株式会社
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紫外線消毒装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-068298
出願人:株式会社東芝
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高温動作用にパッケージ化された発光ダイオード
公報種別:公表公報
出願番号:特願2006-513307
出願人:ラミナセラミックスインコーポレーテッド
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水の浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-017528
出願人:豊田合成株式会社
-
紫外線・ひび割れ等検出判定機能を備えた紫外線殺菌浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-056924
出願人:林宏
-
浄水器及び浄水システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2014-225518
出願人:株式会社シリコンプラス
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特許第7651660号
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空気殺菌及び消毒装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2016-530064
出願人:マークディ.クロスニィー, ウイリアムオー.ティ.ペシュケ, ウイリアムイー.レイセナウアー
-
流体の浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-391705
出願人:阿部一朗
全件表示
審査官引用 (10件)
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紫外線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2011-149736
出願人:ハリソン東芝ライティング株式会社
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紫外線消毒装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2008-068298
出願人:株式会社東芝
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高温動作用にパッケージ化された発光ダイオード
公報種別:公表公報
出願番号:特願2006-513307
出願人:ラミナセラミックスインコーポレーテッド
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水の浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-017528
出願人:豊田合成株式会社
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紫外線・ひび割れ等検出判定機能を備えた紫外線殺菌浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-056924
出願人:林宏
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浄水器及び浄水システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2014-225518
出願人:株式会社シリコンプラス
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特許第7651660号
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空気殺菌及び消毒装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2016-530064
出願人:マークディ.クロスニィー, ウイリアムオー.ティ.ペシュケ, ウイリアムイー.レイセナウアー
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流体の浄化装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-391705
出願人:阿部一朗
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特許第7651660号
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