特許
J-GLOBAL ID：202003002343323740

露光装置および露光方法

発明者：
加藤 暢宏

加藤 暢宏 について

, 
寺下 光彦

寺下 光彦 について

, 
中村 綾佑

中村 綾佑 について

, 
北條 将史

北條 将史 について

, 
川脇 拓哉

川脇 拓哉 について

, 
中村 孝司

中村 孝司 について


出願人/特許権者：
学校法人近畿大学

学校法人近畿大学 について

, 
帝国イオン株式会社

帝国イオン株式会社 について


代理人 (1件)： 廣幸 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-051679
公開番号（公開出願番号）：特開2020-154099
出願日： 2019年03月19日
公開日（公表日）： 2020年09月24日
要約：
【課題】平面的に作成された露光パターンデータをそのまま曲面上に露光すると露光パターンは歪んでしまう。【解決手段】曲面を有し感光材が塗布された被露光体上に露光パターンデータを露光する露光装置であって、 前記被露光体上の露光位置の曲面に応じて前記露光パターンデータを補正した補正露光パターンデータを作製する制御部と、 前記補正露光パターンデータに応じた照射パターンを照射する露光部と、 前記被露光体と前記露光部の位置を5軸移動させるマニュピュレータ部とを有することを特徴とする露光装置は、予め歪を織り込んだ補正露光パターンデータを作製し照射パターンとして露光するので、曲面上にも歪のない露光パターンを得ることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
曲面を有し感光材が塗布された被露光体上に露光パターンデータを露光する露光装置であって、 前記被露光体上の露光位置の曲面に応じて前記露光パターンデータを補正した補正露光パターンデータを作製する制御部と、 前記補正露光パターンデータに応じた照射パターンを照射する露光部と、 前記被露光体と前記露光部の位置を5軸移動させるマニュピュレータ部とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (1件)：
G03F 7/20
FI (1件)：
G03F7/20 501
Fターム (17件)：
2H197AA05 ,  2H197AA21 ,  2H197AA41 ,  2H197CC05 ,  2H197CD02 ,  2H197CD12 ,  2H197CD15 ,  2H197CD17 ,  2H197CD18 ,  2H197CD43 ,  2H197DA03 ,  2H197DA04 ,  2H197EA15 ,  2H197EA17 ,  2H197EA19 ,  2H197EB21 ,  2H197EB23
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM