露光装置および露光方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：廣幸正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-051679
公開番号（公開出願番号）：特開2020-154099
出願日： 2019年03月19日
公開日（公表日）： 2020年09月24日
要約：

【課題】平面的に作成された露光パターンデータをそのまま曲面上に露光すると露光パターンは歪んでしまう。【解決手段】曲面を有し感光材が塗布された被露光体上に露光パターンデータを露光する露光装置であって、前記被露光体上の露光位置の曲面に応じて前記露光パターンデータを補正した補正露光パターンデータを作製する制御部と、前記補正露光パターンデータに応じた照射パターンを照射する露光部と、前記被露光体と前記露光部の位置を5軸移動させるマニュピュレータ部とを有することを特徴とする露光装置は、予め歪を織り込んだ補正露光パターンデータを作製し照射パターンとして露光するので、曲面上にも歪のない露光パターンを得ることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

曲面を有し感光材が塗布された被露光体上に露光パターンデータを露光する露光装置であって、前記被露光体上の露光位置の曲面に応じて前記露光パターンデータを補正した補正露光パターンデータを作製する制御部と、前記補正露光パターンデータに応じた照射パターンを照射する露光部と、前記被露光体と前記露光部の位置を5軸移動させるマニュピュレータ部とを有することを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (1件)：

G03F7/20 501

Fターム (17件)：

2H197AA05 , 2H197AA21 , 2H197AA41 , 2H197CC05 , 2H197CD02 , 2H197CD12 , 2H197CD15 , 2H197CD17 , 2H197CD18 , 2H197CD43 , 2H197DA03 , 2H197DA04 , 2H197EA15 , 2H197EA17 , 2H197EA19 , 2H197EB21 , 2H197EB23

引用特許：

審査官引用 (9件)

マスクレス露光装置及びマスクレス露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-254463 出願人：日本精工株式会社
露光方法およびそれを用いた半導体集積回路装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-260937 出願人：株式会社日立製作所
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法
公報種別：再公表公報出願番号：JP2011057766 出願人：HOYA株式会社

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