特許
J-GLOBAL ID：200903067903092680
リソグラフィ装置および電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-110348
公開番号（公開出願番号）：特開2000-305279
出願日： 1999年04月19日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：
【要約】【課題】 高密度実装及び電子機器の小型化に対応して、ワークとして例えば筺体の底面などの水平面に回路パターンを形成することに加えて、水平面以外の面、たとえば側面などの鉛直面や曲率部を有する曲面等に、回路パターンを形成することが可能なリソグラフィ装置を提供する。また、筺体の壁面に直接回路パターンを形成して、この回路パターンにチップコンデンサなどのチップ部品等を実装することによって、プリント基板をなくし、さらに、高密度実装化、放熱性の向上、組立のコストダウンが可能な電子機器を提供する。【解決手段】 リソグラフィ装置1は、投影装置10によって作成した回路パターン像を被写体たる筺体2の内壁面に照射結像させるものである。筺体2の側面等への照射を可能とするために、投影装置10自体を揺動させることができるように、3軸(X、Y、Z軸)の投影揺動装置20を備えている。また、筺体2を揺動させるために、2軸(X、Y軸)のワーク揺動装置30を備える。
請求項（抜粋）：
レジスト層に光像を照射して回路パターンを形成するリソグラフィ装置であって、ワークの平面、または、曲率部を有する曲面に形成されたレジスト層に光像を照射して、回路パターンを形成することが可能な投影手段を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 7/24 Z
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 515 Z
2H097AA03
, 2H097AA16
, 2H097AB05
, 2H097AB06
, 2H097BB03
, 2H097CA06
, 2H097CA17
, 2H097GB02
, 2H097LA09
, 2H097LA10
, 2H097LA15
, 5F046AA05
, 5F046AA06
, 5F046AA20
, 5F046BA03
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB02
, 5F046CB18
, 5F046CC03
, 5F046CC05
, 5F046CC06
