特許
J-GLOBAL ID：200903033849914279
露光方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
須田 篤
, 楠 修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-273326
公開番号（公開出願番号）：特開2008-091793
出願日： 2006年10月04日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】表面に凹凸のある立体サンプルにパターニングを行うに際して、サンプル内の場所に応じて部分的に、入射角度、偏光方向、露光量などの条件の最適化が可能な露光方法及び露光装置を提供する。【解決手段】表面に凹凸のある立体サンプル1にリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光2を立体サンプル1の基板面の法線方向に対して、10°以上60°以下の範囲で傾斜させて露光する。このとき、立体サンプル1内の場所に応じて部分的に露光量を変えてもよい。また、偏光方向4を制御した入射光2を使用してもよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面に凹凸のある立体サンプルにリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光をサンプルの基板面の法線方向に対して、10°以上60°以下の範囲で傾斜させて露光することを、特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 509
, G03F7/20 521
5F046BA02
, 5F046CB17
, 5F046CC01
出願人引用 (2件)
審査官引用 (14件)
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