特許
J-GLOBAL ID:202003006462359383
モジュラーマイクロ波源を使用した対称及び不規則なプラズマ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
園田・小林特許業務法人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-555485
公開番号(公開出願番号):特表2020-517060
出願日: 2018年03月12日
公開日(公表日): 2020年06月11日
要約:
実施形態は、処理チャンバと、処理チャンバに連結された複数のモジュラーマイクロ波源とを含むプラズマ処理ツールを含む。一実施形態において、複数のモジュラーマイクロ波源は、処理チャンバの外壁の一部を形成する誘電体の上に位置づけされたアプリケータアレーを含む。アプリケータアレーは、誘電体に連結されうる。更に、複数のモジュラーマイクロ波源は、マイクロ波増幅モジュールのアレーを含みうる。一実施形態において、各マイクロ波増幅モジュールは、マイクロ波増幅モジュールのアレー内のアプリケータのうちの少なくとも1つに連結されうる。一実施形態によれば、誘電体は、平面状、非平面状、対称、又は非対称である。さらに別の実施形態において、誘電体は、複数の凹部を含みうる。上記実施形態において、凹部のうちの少なくとも1つに少なくとも1つのアプリケータが位置づけされうる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
プラズマ処理ツールであって、
処理チャンバと、
前記処理チャンバに連結された複数のモジュラーマイクロ波源であって、
前記処理チャンバの外壁の一部を形成する誘電体の上に位置づけされ、前記誘電体に連結されたアプリケータアレーと、
前記アプリケータアレー内のアプリケータのうちの少なくとも1つに各々が連結されたマイクロ波増幅モジュールのアレーと
を備える複数のモジュラーマイクロ波源と
を備える、プラズマ処理ツール。
IPC (5件):
H05H 1/46
, H01L 21/31
, H01L 21/306
, H01L 21/304
, C23C 16/511
FI (5件):
H05H1/46 B
, H01L21/31 C
, H01L21/302 101D
, H01L21/304 645C
, C23C16/511
Fターム (86件):
2G084AA02
, 2G084AA03
, 2G084AA05
, 2G084BB02
, 2G084BB05
, 2G084BB13
, 2G084BB14
, 2G084BB37
, 2G084CC06
, 2G084CC08
, 2G084CC14
, 2G084CC33
, 2G084DD04
, 2G084DD12
, 2G084DD25
, 2G084DD42
, 2G084DD51
, 2G084DD55
, 2G084DD61
, 2G084DD62
, 2G084FF04
, 2G084FF39
, 2G084HH02
, 2G084HH05
, 2G084HH08
, 2G084HH19
, 2G084HH23
, 2G084HH29
, 2G084HH32
, 2G084HH34
, 2G084HH42
, 2G084HH52
, 4K030CA04
, 4K030CA06
, 4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030GA06
, 4K030JA01
, 4K030KA30
, 4K030LA15
, 4K030LA18
, 5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB19
, 5F004BB22
, 5F004BB25
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BD04
, 5F004CB02
, 5F004CB20
, 5F045AA09
, 5F045BB02
, 5F045DP03
, 5F045DP15
, 5F045DP27
, 5F045DP28
, 5F045EF05
, 5F045EH02
, 5F045EH04
, 5F045EH19
, 5F045EJ02
, 5F045EK07
, 5F045EM05
, 5F045EM10
, 5F045GB08
, 5F157AB02
, 5F157AB03
, 5F157AB16
, 5F157AB33
, 5F157AB90
, 5F157BG32
, 5F157BH18
, 5F157BH19
, 5F157CF04
, 5F157CF16
, 5F157CF42
, 5F157CF44
, 5F157CF46
, 5F157CF60
, 5F157CF90
, 5F157DB02
, 5F157DB37
, 5F157DB43
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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