特許
J-GLOBAL ID：202103020392575881
感光性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-544402
特許番号：特許第6833053号
出願日： 2018年08月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 樹脂と、
光酸発生剤と、
溶剤と、
低分子エステル化合物と、を含み
前記低分子エステル化合物が、アルカリ分解性を有し、下記式Bで表される化合物であり、かつ、分子量が1,500未満であり、
前記低分子エステル化合物が、下記Z-24、Z-25、Z-26、Z-33、Z-34、Z-37、Z-39、Z-42、Z-45、Z-46及びZ-47よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物を含み、
前記低分子エステル化合物の含有量が、組成物の全固形分に対し、0.1質量%以上6質量%以下である
感光性樹脂組成物。
式B中、Raはそれぞれ独立に、トリフルオロメチル基を表し、Rcはn価の炭化水素基を表し、Rdはそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、nは、1〜3の整数を表す。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 7/004 501
, G03F 7/038 601
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, G03F 7/20 521
, G03F 7/20 501
