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J-GLOBAL ID:201801019853250334   Update date: Oct. 25, 2024

Nishinaka Hiroyuki

Nishinaka Hiroyuki
Affiliation and department:
Research field  (2): Electronic devices and equipment ,  Crystal engineering
Research keywords  (4): Oxide thin films ,  CVD ,  Epitaxial growth ,  Crystal growth
Research theme for competitive and other funds  (8):
  • 2023 - 2025 細胞外電子伝達菌と光半導体による高効率人工光合成への挑戦
  • 2022 - 2025 Research of ultra-low power switching devices based on ferroelectric kappa-Ga2O3
  • 2019 - 2022 Research on Polarization-Controlled Ultra-Wide Bandgap Semiconductor Devices
  • 2019 - 2021 Hetero-junction devices of lattice matched alpha-(In1-xAlx)2O3 semiconductors
  • 2019 - 2020 3次元構造への高速被膜技術の開発
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Papers (86):
  • Gen Yasui, Hiroki Miyake, Kazuki Shimazoe, Hiroyuki Nishinaka. Heteroepitaxial Growth of NiO Thin Films on (-201) β-Ga2O3 by Mist Chemical Vapor Deposition. physica status solidi (b). 2024
  • Hiroyuki Nishinaka, Yuki Kajita, Shoma Hosaka, Hiroki Miyake. Composition Analysis of β-(In x Ga 1- x ) 2 O 3 Thin Films Coherently Grown on (010) β-Ga 2 O 3 via Mist CVD. Science and Technology of Advanced Materials. 2024
  • Kazuki SHIMAZOE, Temma Ogawa, Hiroyuki NISHINAKA. Growth of water-insoluble rutile GeO2 thin films on (001) TiO2 substrates with graded Ge x Sn1-x O2 buffer layers. Applied Physics Express. 2024
  • Kazuki Shimazoe, Shunsuke Kurosawa, Hiroki Tanaka, Takushi Takata, Hiroyuki Nishinaka. Tolerance of Corundum-Structured Tin-Doped Indium Oxide Thin Films to Gamma-ray Irradiation. physica status solidi (b). 2024
  • Masahiro Kaneko, Hiroki Miyake, Hiroyuki Nishinaka. Demonstration of β-(Alx Ga1-x )2O3/β-Ga2O3 superlattice growth by mist chemical vapor deposition. Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers. 2024. 63. 9
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MISC (16):
Patents (76):
Lectures and oral presentations  (84):
  • ワイドバンドギャップ半導体の点欠陥の定量
    (第16回ナノ構造・エピタキシャル成長講演 2024)
  • 貧溶媒アシスト結晶化法によるCs-Cu-I系のマイクロロッド単結晶成長と物性評価
    (応用物理学会関西支部2024年度第1回講演会 2024)
  • ミストデポジション法によるCs-Cu-I系発光材料の薄膜形成と物性評価
    (応用物理学会関西支部2024年度第1回講演会 2024)
  • Atmospheric Mist CVD Growth of C Doped HfO Thin Films Exhibiting CeRAM Switching
    (応用物理学会関西支部2024年度第1回講演会 2024)
  • モット転移を用いたCeRAMに向けたミストCVDによるNiO薄膜形成と電流電圧特性評価
    (応用物理学会関西支部2024年度第1回講演会 2024)
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Professional career (1):
  • 博士(工学) (京都大学)
Work history (5):
  • 2020/02 - 現在 Kyoto Institute of Technology Faculty of Electrical Engineering and Electronics Associate Professor
  • 2023/08 - 2023/10 University of Colorado Colorado Springs Visiting Scholor
  • 2023/04 - 2023/05 University of Valencia Visiting Scholor
  • 2015/01 - 2020/01 京都工芸繊維大学 Faculty of Electrical Engineering and Electronics Assistant Professor
  • 2009/04 - 2014/12 SHARP Corporation
Awards (6):
  • 2017/03 - JSAPフォトイラストコンテスト最優秀賞
  • 2016/04 - 日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会 講演奨励賞
  • 2008/12 - 応用物理学会結晶工学分科会2008年年末講演会分科会発表奨励賞
  • 2008/10 - 薄膜材料デバイス研究会第5回研究集会 ベストペーパーアワード
  • 2008/07 - 京都大学工学研究科高等研究院融合ナノ基盤工学研究部門第1回若手研究者発表会最優秀賞
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Association Membership(s) (4):
IEEE ,  THE SOCIETY OF MATERIALS SCIENCE, JAPAN ,  THE JAPAN SOCIETY OF APPLIED PHYSICS ,  American Chemical Society
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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