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J-GLOBAL ID：200902248249676032   Reference number：09A0910427

Loss Properties of Anodized Thin-Film Capacitors Fabricated Using Hf-Doped Nb Alloy Films

HfドープNb合金膜を使って作製した陽極酸化薄膜キャパシタの損失特性

Author (7)： SHIBATA Tomoharu (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  KIMIZAKI Hidefumi (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  SHINKAI Satoko (Kyushu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YANAGISAWA Hideto (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YAMANE Misao (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  ABE Yoshio (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 48  Issue： 8,Issue 1  Page： 085504.1-085504.4  Publication year： Aug. 25, 2009 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： niobium ,  *niobium oxide ,  Hafnium ,  doping ,  *niobium base alloy ,  hafnium containing alloy ,  metallic thin film ,  dielectric thin film ,  *hafnium oxide ,  magnetron sputtering ,  sputtered deposition ,  *thin film condenser ,  *dielectric loss tangent ,  *leakage current ,  electrostatic capacity ,  permittivity ,  Auger spectrum ,  anodic oxidation ,  oxide ,  complex oxide
Semi thesaurus term： anodic oxidation

JST classification (2)： Dielectrics in general  (BM05010F) ,  LCR parts  (NA05030D)

Reference (16)：

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• J. Y. Zhang and I. W. Boyd: Appl. Surf. Sci.186(2002)40.
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• N. Mikuni, T. Shibata, S. Shinkai, K. Sasaki, H. Yanagisawa, M. Yamane, and Y. Abe: Jpn. J. Appl. Phys.46(2007)5249.

Terms in the title (7)： HF ,  ドープ ,  Nb合金 ,  作製 ,  陽極酸化 ,  薄膜キャパシタ ,  損失