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J-GLOBAL ID:200903000159899565
感光性積層体及びそれを用いたレジストパターン形成方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
阿形 明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001165726
Publication number (International publication number):2002357903
Application date: May. 31, 2001
Publication date: Dec. 13, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 孤立電子対をもつ原子を含む層の上にレジストパターンを形成する際に、これらの層とレジスト層との境界におけるフッティングの発生を防止しうる感光性積層体の提供。【解決手段】 基板上に孤立電子対をもつ原子を含む層を介して化学増幅型ポジ型レジスト層を設けた感光性積層体であって、該化学増幅型ポジ型レジスト組成物が、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂(A)水酸基の35%の水素原子が1-エトキシ-1-エチル基で置換された質量平均分子量12,000、分散度1.2のポリヒドロキシスチレン18質量部(B)配合して形成した膜について2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、23°Cにおいて1分間処理したとき、その膜減量が0.6nm/秒以上になる酸発生剤5質量部、及び(C)アミンを含有した感光性積層体。
Claim (excerpt):
基板上に孤立電子対をもつ原子を含む層を介して化学増幅型ポジ型レジスト層を設けた感光性積層体であって、該化学増幅型ポジ型レジスト組成物が、(A)(a1)ヒドロキシスチレン又はα-メチルヒドロキシスチレン単位と、(a2)ヒドロキシスチレン又はα-メチルヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子が低級アルコキシアルキル基で置換された単位とを含む、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分、(B)活性光線の照射により酸を発生しうる酸発生剤であって、水酸基の35%の水素原子が1-エトキシ-1-エチル基で置換された質量平均分子量12,000、分散度1.2のポリヒドロキシスチレン18質量部に対し該酸発生剤を5質量部の割合で配合して形成した膜について2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、23°Cにおいて1分間処理したとき、その膜減量が0.6nm/秒以上になる酸発生剤、及び(C)アミンを含有することを特徴とする感光性積層体。
IPC (5):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/11 503
, G03F 7/26 501
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, G03F 7/11 503
, G03F 7/26 501
, H01L 21/30 502 R
F-Term (22):
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025DA40
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H096AA25
, 2H096BA09
, 2H096BA20
, 2H096CA05
, 2H096EA03
, 2H096EA05
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096LA16
, 2H096LA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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新規ポリマー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-035572
Applicant:和光純薬工業株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-015401
Applicant:和光純薬工業株式会社, 住友化学工業株式会社
-
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-250530
Applicant:住友化学工業株式会社
-
ポリマー組成物及びこれを含んで成るレジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-354985
Applicant:和光純薬工業株式会社
-
ポジ型レジスト膜形成用塗布液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-250611
Applicant:東京応化工業株式会社
-
感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-263211
Applicant:東京応化工業株式会社
-
ジアゾジスルホン化合物および感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-139222
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-195065
Applicant:信越化学工業株式会社
-
パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-080949
Applicant:三菱化学株式会社
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