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J-GLOBAL ID：200903000380891560

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
高橋 憲司

About 高橋 憲司

, 
呉 錫煥

About 呉 錫煥


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997250530
Publication number (International publication number)：1999095434
Application date： Sep. 16, 1997
Publication date： Apr. 09, 1999
Summary：
【要約】【課題】 マスクパターンに忠実な形状のパターンを与えることができ、かつ感度や解像度に優れた化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供し、さらにはその基板依存性を少なくする。【解決手段】 式(Ia)、(Ib)及び(Ic)(R1 は水素又はメチルを表し、R2 は水素又はアルキルを表し、R3 及びR4は互いに独立にアルキルを表すか、又はR3 とR4 が一緒になってトリ若しくはテトラメチレン鎖を形成し、R5 はアルキルを表す)で示される各構造単位を有する樹脂(A)、酸発生剤(B)、及び常圧において200°C以下では固体又は液体を保つ3級アミン化合物(C)を含有するポジ型フォトレジスト組成物。さらに、pKa が2〜5の有機酸性成分(D)を含有するのが一層有効である。
Claim (excerpt)：
式(Ia)、(Ib)及び(Ic)(式中、R1 は水素又はメチルを表し、R2 は水素又は炭素数1〜6のアルキルを表し、R3 及びR4 は互いに独立に、炭素数1〜6のアルキルを表すか、又はR3 とR4 が一緒になってトリメチレン若しくはテトラメチレン鎖を形成し、そしてR5 は炭素数1〜6のアルキルを表す)で示される各構造単位を有する樹脂(A)、放射線の作用により酸を発生する酸発生剤(B)、及び常圧において200°Cより低い温度では固体又は液体を保つ3級アミン化合物(C)を含有することを特徴とする、ポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
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