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J-GLOBAL ID：200903057561695382

ポリマー組成物及びこれを含んで成るレジスト材料

Inventor：
浦野 文良

About 浦野 文良

, 
藤江 啓利

About 藤江 啓利

, 
大野 桂二

About 大野 桂二


Applicant, Patent owner：
和光純薬工業株式会社

About 和光純薬工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996354985
Publication number (International publication number)：1998048826
Application date： Dec. 20, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：
【要約】【課題】紫外線、特に300 nm以下の遠紫外光、KrFエキシマレーザ光等を用いて良好なパターン形状が得られるレジスト材料及びこれに用いられるポリマー組成物の提供。【解決手段】(1)(i)酸の存在下、加熱により化学変化を受けて容易にアルカリ可溶性となり得る官能基(官能基A)を有するモノマー単位を構成成分として含んで成るポリマーと、(ii)酸の存在下、加熱により化学変化を受けてアルカリ可溶性となり得る官能基ではあるが、上記(i)に於ける官能基Aよりは化学変化を受け難い官能基を有するモノマー単位を構成成分として含んで成るポリマーと、を含んで成るポリマー組成物。(2)上記(1)のポリマー組成物と更にフェノール性化合物から成るポリマー組成物。(3)上記(1)の(i)で表わされるポリマ-とフェノール性化合物から成るポリマー組成物。(4)これら何れかのポリマー組成物と感放射線照射により酸を発生する物質と、溶剤とを含んで成るレジスト材料。
Claim (excerpt)：
(i)酸の存在下、加熱により化学変化を受けて容易にアルカリ可溶性となり得る官能基(以下、官能基Aと略す。)を有するモノマー単位を構成成分として含んで成るポリマー(ポリマー1)と、(ii)酸の存在下、加熱により化学変化を受けてアルカリ可溶性となり得る官能基ではあるが、上記(i)に於ける官能基Aよりは化学変化を受け難い官能基(以下、官能基Bと略す。)を有するモノマー単位を構成成分として含んで成るポリマー(ポリマー2)と、を含んで成ることを特徴とするポリマー組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 ,  C08K 5/00 KFW ,  C08L 25/18 LEK ,  C08L101/00 LSY ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F 7/039 ,  C08K 5/00 KFW ,  C08L 25/18 LEK ,  C08L101/00 LSY ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (20)
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