Pat
J-GLOBAL ID：200903059763390438

感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物

Inventor：
大久保 和喜

About 大久保 和喜

, 
佐藤 和史

About 佐藤 和史

, 
新田 和行

About 新田 和行

, 
緒方 寿幸

About 緒方 寿幸


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000263211
Publication number (International publication number)：2001142217
Application date： Aug. 31, 2000
Publication date： May. 25, 2001
Summary：
【要約】【課題】 安価で、レジストパターン形状および耐ドライエッチング性に優れ、かつ高解像性であり、SEM耐性に優れる、とくにKrFレーザー用またはF2レーザー以下の短波長光用の感光性基材、それを用いたレジストパターンの形成方法およびポジ型レジスト組成物の提供。【解決手段】 基板上にレジスト層を500〜5800Åの厚さに設けた感光性基材であって、該レジスト層のための組成物が、(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ可溶性ノボラック樹脂および(C)少なくとも一つの酸解離性溶解抑制基を有し(A)成分から発生した酸の作用により該溶解抑制基が解離し有機カルボン酸を発生し得る化合物を含んでなる。この感光性基材に、KrFエキシマレーザーまたはF2レーザー以下の短波長光による選択的露光、露光後加熱およびアルカリ現像を順次施し、レジストパターンを得る。
Claim (excerpt)：
基板上にレジスト層を500〜5800Åの厚さに設けた感光性基材であって、該レジスト層を形成するレジスト組成物が、(A)放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ可溶性ノボラック樹脂および(C)少なくとも一つの酸解離性溶解抑制基を有し(A)成分から発生した酸の作用により該溶解抑制基が解離し有機カルボン酸を発生し得る化合物を含んでなるポジ型レジスト組成物であることを特徴とする感光性基材。
IPC (8)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08K 5/00 ,  C08L 61/08 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (8)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08K 5/00 ,  C08L 61/08 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-221230   Applicant：株式会社東芝
  • ポジ型感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-286045   Applicant：富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-305929   Applicant：富士写真フイルム株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM