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J-GLOBAL ID：200903000854831467

ウェーハの搬送方法

Inventor：
示野 和弘

About 示野 和弘

, 
吉岡 健

About 吉岡 健


Applicant, Patent owner：
株式会社日立国際電気

About 株式会社日立国際電気


Agent (4)： 油井 透 ,  阿仁屋 節雄 ,  清野 仁 ,  福岡 昌浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009093095
Publication number (International publication number)：2009152649
Application date： Apr. 07, 2009
Publication date： Jul. 09, 2009
Summary：
【課題】 基板処理特性の低下を防止できるようにする。【解決手段】 カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第1の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第2の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
カセット内に収容された結晶方向を有するウェーハを第1の搬送ロボットによってウェーハ載置棚に収容後、前記ウェーハ載置棚を回転させた後、第2の搬送ロボットによりウェーハを取り出し、 反応室内にウェーハの結晶方向を反応室中心線に合わせて載置するウェーハの搬送方法。
IPC (5)：
H01L 21/677 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306
FI (5)：
H01L21/68 A ,  B65G49/07 C ,  H01L21/68 F ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101G
F-Term (40)：
5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BB18 ,  5F004BB19 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F031CA02 ,  5F031DA09 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA45 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031JA29 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031KA11 ,  5F031MA04 ,  5F031MA13 ,  5F031MA28 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031NA10 ,  5F031PA23 ,  5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045BB14 ,  5F045EB08 ,  5F045EM10 ,  5F045EN05 ,  5F045EN06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (16)
  • 搬送装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-154337   Applicant：東京エレクトロン東北株式会社
  • 半導体基板の搬出方法及び露光装置及び半導体装置の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-179990   Applicant：セイコーエプソン株式会社
  • 半導体製造装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-292429   Applicant：キヤノン株式会社
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