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J-GLOBAL ID:200903002240816928
III族窒化物結晶の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鳥居 洋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008247344
Publication number (International publication number):2009040683
Application date: Sep. 26, 2008
Publication date: Feb. 26, 2009
Summary:
【課題】高性能の発光ダイオードやLD等のデバイスを作製するために実用的な大きさで、かつ、低コスト,高品質のIII族窒化物結晶を成長させることの可能なIII族窒化物結晶成長方法およびIII族窒化物結晶成長装置を提供する。【解決手段】混合融液保持容器102には、III族金属としてのGaとアルカリ金属としてのNaとから構成される混合融液103が収容されている。ここで、Naの純度が99%、Gaの純度が99.9999%、窒素ガスの純度が99.999%、混合融液保持容器102の材質が焼結体のBNの場合には、固体物110は一部に穴111が開いたような形状となる。その穴111を通して窒素が混合融液103中に溶け込むことにより、混合融液103中に、III族窒化物としてのGaNの単結晶109を結晶成長させることができる。【選択図】図3
Claim (excerpt):
所定の容器内において、アルカリ金属と少なくともIII族金属を含む物質との混合融液を形成し、該混合融液と少なくとも窒素を含む物質とから、III族金属と窒素から構成されるIII族窒化物を結晶成長させるIII族窒化物結晶成長方法であって、混合融液の表面を混合融液内に窒素が導入可能な状態にして、III族窒化物を成長させることを特徴とするIII族窒化物結晶成長方法。
IPC (4):
C30B 29/38
, C30B 19/02
, H01L 33/00
, H01S 5/323
FI (4):
C30B29/38 D
, C30B19/02
, H01L33/00 C
, H01S5/323 610
F-Term (22):
4G077AA02
, 4G077BE15
, 4G077CG01
, 4G077CG06
, 4G077EA06
, 4G077EC08
, 4G077EC09
, 4G077EG05
, 4G077EG25
, 4G077HA02
, 4G077HA06
, 4G077HA12
, 4G077QA01
, 4G077QA12
, 4G077QA26
, 4G077QA34
, 4G077QA52
, 5F041AA42
, 5F041CA40
, 5F173AA08
, 5F173AH22
, 5F173AR94
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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窒化ガリウム単結晶の育成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-136415
Applicant:科学技術振興事業団
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GaN単結晶基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-171276
Applicant:住友電気工業株式会社
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GaN単結晶基板及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-183446
Applicant:住友電気工業株式会社
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Cited by examiner (4)