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J-GLOBAL ID：200903003467349478

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
北條 卓馬

About 北條 卓馬

, 
石川 清

About 石川 清


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003125242
Publication number (International publication number)：2004333549
Application date： Apr. 30, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】高いエッチング耐性を有し、高解像性が得られるポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が、(a1)下記一般式(I)で表される構成単位を有する重合体であり、かつ、(a1)単位の水酸基の一部が、その水素原子が下記一般式(II)で表される酸解離性溶解抑制基により置換されることによって保護されていることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、Rは水素原子またはメチル基を表し、R1は炭素数1〜5のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜5のアルキル基または水素原子を表し、Xは炭素数10〜16の脂肪族多環式基または炭素数10〜16の芳香族多環式炭化水素基を表す。)【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、(a1)下記一般式(I)で表される構成単位を有する重合体であり、かつ、該構成単位(a1)の水酸基の一部が、その水素原子が下記一般式(II)で表される酸解離性溶解抑制基により置換されることによって保護されていることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  C08F8/00 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  C08F8/00 ,  H01L21/30 502R
F-Term (28)：
2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04H ,  4J100BC09H ,  4J100BC49H ,  4J100CA31 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100HA19 ,  4J100HC13 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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