アセタール/脂環式ポリマーおよびフォトレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：千田稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002296564
Publication number (International publication number)：2003295444
Application date： Oct. 09, 2002
Publication date： Oct. 15, 2003
Summary：

【要約】【課題】優れたリソグラフィー特性を賦与することのできる新規なポリマーの提供。【解決手段】光活性成分および脂環式単位およびフォト酸レイビルアセタール単位を含むポリマーを含むフォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

光活性成分および脂環式単位およびフォト酸レイビルアセタール単位を含むポリマーを含むフォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 , C08F216/38 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 , C08F216/38 , H01L 21/30 502 R

F-Term (34)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025FA17 , 4J100AB07R , 4J100AF15P , 4J100AL03Q , 4J100AL04Q , 4J100AL05Q , 4J100AL08Q , 4J100BA13R , 4J100BB17Q , 4J100BC02Q , 4J100BC03Q , 4J100BC07Q , 4J100BC09Q , 4J100BC12Q , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-060057 Applicant：住友化学工業株式会社
新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-307148 Applicant：信越化学工業株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-317407 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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