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J-GLOBAL ID：200903004285465690

パターン形成方法

Inventor：
川村 浩一

About 川村 浩一


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (4)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004090651
Publication number (International publication number)：2005275171
Application date： Mar. 25, 2004
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：
【課題】 固体表面に高解像度のグラフトポリマーパターンを容易に形成しうるパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 光開裂によりラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、 パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、 前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位に光開裂を生起させ、ラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
光開裂によりラジカル重合を開始しうる光重合開始部位と基材結合部位とを有する化合物を基材に結合させる工程と、 パターン露光を行い、露光領域の該光重合開始部位を失活させる工程と、 前記基材上にラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させた後、全面露光を行い、前記パターン露光時における非露光領域に残存した該光重合開始部位に光開裂を生起させ、ラジカル重合を開始させることでグラフトポリマーを生成させる工程と、 をこの順に行うことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4)：
G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40
FI (4)：
G03F7/004 521 ,  G03F7/028 ,  G03F7/38 511 ,  G03F7/40 521
F-Term (26)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC31 ,  2H025BC88 ,  2H025BH04 ,  2H025CA00 ,  2H025CB41 ,  2H025DA39 ,  2H025FA01 ,  2H025FA06 ,  2H025FA35 ,  2H025FA37 ,  2H096AA30 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096BA20 ,  2H096DA00 ,  2H096EA13 ,  2H096EA14 ,  2H096FA10 ,  2H096JA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
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