真空プロセッサ中の誘電体工作物のための静電デチャッキング方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田精孝
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000572927
Publication number (International publication number)：2002526923
Application date： Sep. 10, 1999
Publication date： Aug. 20, 2002
Summary：

【要約】真空プラズマ加工チャンバ中で加工されるガラス工作物が、工作物を締め付けるために十分に高い電圧を維持しながら加工中にチャッキング電圧を徐々に下げることによってモノポーラ静電チャックからデチャッキングされる。加工中のチャッキング電圧は、チャッキング力および流量をほぼ一定に維持するためにチャックに流れる伝熱流体の流量に応答して制御される。加工の終了時にチャックに印加される逆極性電圧がデチャッキングを援助する。工作物温度は、デチャッキングを援助するために加工の終了時に高い値に維持される。チャックからの工作物持ち上げの間にチャック中を流れるピーク電流は、次のデチャッキング操作中の逆極性電圧の振幅および/または持続時間を制御する。チャンバ中の不活性プラズマが、チャックからの工作物持ち上げの間に工作物から残留電荷を除去する。

Claim (excerpt)：

基準電位にある金属壁と、電極をもつ静電チャックとを有する真空プラズマ・プロセッサ・チャンバ中で誘電体工作物を加工する方法であって、工作物をチャックに付けることと、工作物がチャック上にある間に電極にDCチャッキング電圧を印加することと、チャンバ中で工作物をプラズマで加工することであって、プラズマは、プラズマに露出される工作物の前面が基準電位とほぼ同じ電位になるように十分に低い電気インピーダンスを有することと、プラズマに露出されない工作物の裏面に伝熱流体を供給することによって、工作物がプラズマによって加工される間に工作物温度を制御することとであって、流体が、工作物をチャックに対して移動させる傾向を有し、チャッキング電圧が工作物に対してチャッキング力を生じて、工作物をチャックに対して移動させる流体の傾向を克服し、工作物および絶縁体が、抵抗率を含めて、決定された受動的電気特性を有し、受動的電気特性は、チャッキング電圧によって供給されるチャッキング電荷が誘電体工作物の加工中に工作物の露出される面から工作物の露出されない面まで工作物中に伝導され、その結果、工作物の加工中に一定のDCチャッキング電圧が電極に印加されることにより工作物に対して増大するチャッキング力を生じる傾向があるようなものであり、複数のデチャッキング加工ステップのうち、決定された受動的電気特性に依存する少なくとも1つのデチャッキング加工ステップを選択することであって、選択された少なくとも1つのデチャッキング加工ステップが、工作物に対して増大するチャッキング力を生じる傾向にもかかわらず、チャックからの工作物の取り外しを容易にすることが分かっていることと、選択された少なくとも1つのデチャッキング加工ステップを実行して、工作物加工が完了したときにチャックからの工作物の取り外しを容易にすることとを含む方法。

IPC (4)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (4)：

H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

F-Term (33)：

3C016GA10 , 5F004AA06 , 5F004BA20 , 5F004BB22 , 5F004BB25 , 5F004BD04 , 5F004CA04 , 5F004DA22 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA02 , 5F031HA03 , 5F031HA10 , 5F031HA19 , 5F031HA33 , 5F031HA34 , 5F031HA35 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA40 , 5F031JA01 , 5F031JA45 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031NA05 , 5F045AA08 , 5F045AC17 , 5F045BB16 , 5F045EH11 , 5F045EJ03 , 5F045EM05 , 5F045EM06 , 5F045GB15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

静電チャック及びその制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-124143 Applicant：ソニー株式会社
半導体製造装置の静電チャック用電源および半導体製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-054499 Applicant：三菱電機株式会社
静電吸着ステージ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-075118 Applicant：日本電気株式会社

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