基板処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮本治彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998268957
Publication number (International publication number)：2000091398
Application date： Sep. 07, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】カセット運用を容易にすると共に、カセット収容数の低下を防止できる基板処理装置を提供する。【解決手段】カセット室14の前方に、上部のI/Oステージ1と下部のI/Oステージ4とを設ける。これら2つのI/Oステージ1、4間には、ダミーまたはモニタ用カセット棚5を設ける。カセット室14の後方には、プロセス用カセット6用の回転カセット棚2を設ける。プロセス用カセット6は、天井カセット搬送AGV8によりI/Oステージ1に搬送する。ダミー用またはモニタ用カセット7は、手動または既存の床上を移動するAGVにてI/Oステージ4に搬送する。

Claim (excerpt)：

カセットを搬入/搬出するI/Oステージが上下に2ヶ所あり、上側のI/Oステージは、天井カセット搬送AGVに対応しておりプロセス用カセット用として使用し、下側のI/Oステージは、ダミー用カセット用および/またはモニタ用カセット用として使用する構成であることを特徴とする基板処理装置。

F-Term (9)：

5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA03 , 5F031FA09 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031HA61 , 5F031PA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

多段式複数チャンバ真空熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-273070 Applicant：東横化学株式会社
半導体製造装置及び該半導体製造装置に於けるウェーハカセット内のウェーハ位置ずれ修正方法及びウェーハカセット搬送方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-132864 Applicant：国際電気株式会社
特開平3-225847

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