リソグラフィ用データ補正装置及びその装置での処理をコンピュータにて行なわせるためのプログラムを格納した記録媒体

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999034881
Publication number (International publication number)：2000235248
Application date： Feb. 12, 1999
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】レイアウト環境に応じた近接効果補正を行なうことが可能なリソグラフィ用データ補正装置を提供することを第一の目的とし、近接効果補正によるデータ量の増加を抑制することが可能なリソグラフィ用データ補正装置を提供することを第二の目的とする。【解決手段】リソグラフィ用データに基づくマスクパターンを所定の部分ごとに分割し(S120,S130)、その部分の露光による劣化に基づいて補正値を決定する第一補正値決定手段(S150)と、補正値をその部分の周辺のレイアウト環境に基づいて調整する補正値調整手段(S160,170)とを有することにより上記課題を解決する。

Claim (excerpt)：

リソグラフィ用データを補正するリソグラフィ用データ補正装置において、前記リソグラフィ用データに基づくマスクパターンを所定の部分ごとに分割し、その部分の露光による劣化に基づいて補正値を決定する第一補正値決定手段と、前記補正値をその部分の周辺のレイアウト環境に基づいて調整する補正値調整手段とを有することを特徴とするリソグラフィ用データ補正装置。

IPC (2)：

G03F 1/08 , G06F 17/50

FI (2)：

G03F 1/08 A , G06F 15/60 658 M

F-Term (7)：

2H095BA01 , 2H095BB02 , 2H095BD04 , 2H095BD31 , 5B046AA08 , 5B046BA04 , 5B046FA04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

露光用マスクパターンの補助パターン自動発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-110797 Applicant：日本電気株式会社
光学的近接補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-127293 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
処理のための改良された回路配置の方法及び構造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-213510 Applicant：エルエスアイロジックコーポレーション

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Cited by examiner (5)

露光用マスクパターンの補助パターン自動発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-110797 Applicant：日本電気株式会社
光学的近接補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-127293 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
処理のための改良された回路配置の方法及び構造
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-213510 Applicant：エルエスアイロジックコーポレーション

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