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J-GLOBAL ID:200903008101683857
基板の温度管理方法及び温度管理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
山本 晃司
, 山下 昭彦
, 岸本 達人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003087007
Publication number (International publication number):2004296773
Application date: Mar. 27, 2003
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】製造ラインにおける装置の占有面積が狭く、基板を所定時間保持する必要のない基板の温度管理装置を提供することを目的とする。【解決手段】温度管理装置1は、基板2を搬送する搬送手段3と、前記搬送手段の搬送経路に配置され前記搬送経路を横断する方向にのびるスリット状の吐出口4aを有するノズル4と、前記ノズルに気体を供給する気体供給手段5と、前記気体の温度を制御する温度制御手段6とを備える。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
搬送中の基板に対して、前記基板の搬送経路を横断する方向に亘って気体を吹き付けて、前記基板の温度を制御することを特徴とする基板の温度管理方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (5):
5F046CD01
, 5F046CD05
, 5F046KA05
, 5F046KA08
, 5F046KA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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特開平1-243063
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電着レジスト乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-147818
Applicant:大日本印刷株式会社
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特開平1-243063
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特開平3-254112
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プリント配線板のリフロー方法およびリフロー炉
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-378679
Applicant:矢崎総業株式会社
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半導体製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-136639
Applicant:サンケン電気株式会社
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ノズル位置調整装置及びノズル位置調整方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-273856
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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特開昭64-000738
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基板搬送装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-240676
Applicant:高砂熱学工業株式会社
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半導体製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-231006
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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基板処理方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-118433
Applicant:三菱電機株式会社, 島田理化工業株式会社
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基板処理装置および熱処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-150673
Applicant:株式会社東芝
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板状のワークの温度制御方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-268424
Applicant:株式会社朝日工業社
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赤外線レーザ用感光性画像形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-376180
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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基板処理装置、基板の搬送方法及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-216551
Applicant:キヤノン株式会社
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