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J-GLOBAL ID：200903009463363040

ガス分析用Jet-REMPI装置

Inventor： 林 俊一 ,  鈴木 哲也 ,  石内 俊一 ,  酒井 誠 ,  藤井 正明
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
Agent (4)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  亀松 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006143953
Publication number (International publication number)：2007315847
Application date： May. 24, 2006
Publication date： Dec. 06, 2007
Summary：

【課題】燃焼ガスや大気中ガスの成分組成を測定する際に、被測定ガス中の特定注目分子をオンサイトで連続的にかつ高感度で定量分析できるガス分析用可搬型Jet-REMPI装置を提供する。【解決手段】ガス導入系およびイオン光学系を一体型の構造とし、単一真空排気系を備えて差動排気するとともに、イオン化室に、被測定ガスを飛行時間型質量分析計の方向に噴射するためのオリフィスノズルを内包し、かつ先端が突起状である出鼻型の対向電極と、イオンを通過させるためのピンホールを有する仕切板を内包し、かつ先端が突起状である出鼻型の引き出し電極を有し、かつ前記引き出し電極の先端から前記仕切板までの範囲の電極部材の一部または全てをメッシュ構造とするガス分析用可搬型Jet-REMPI装置。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

ガス導入系、イオン化室、レーザ照射系および飛行時間型質量分析計からなり、前記ガス導入系から前記イオン化室内に被測定ガスを前記飛行時間型質量分析計の方向に連続的に導入して超音速分子ジェット流を形成すると共に、前記レーザ照射系からレーザ光を該超音速分子ジェット流に対して照射して被測定ガス中の特定分子を共鳴多光子吸収過程でイオン化し、該生成イオンを前記イオン化室内のイオン光学系により加速偏向させた後、前記飛行時間型質量分析計で被測定ガス中の前記特定分子を分析するJet-REMPI装置において、 前記ガス導入系および前記イオン光学系を一体型の構造とし、単一真空排気系を備えて差動排気するとともに、前記イオン化室に、前記被測定ガスを前記飛行時間型質量分析計の方向に噴射するためのオリフィスノズルを内包し、かつ先端が突起状である出鼻型の対向電極と、前記イオンを通過させるためのピンホールを有する仕切板を内包し、かつ先端が突起状である出鼻型の引き出し電極と、アインツェルレンズと、さらに、隔壁で覆われた円筒状のポテンシャルスィッチおよびX,Yデイフレクタとを順次配置し、かつ前記引き出し電極の先端から前記仕切板までの範囲の電極部材の一部または全てをメッシュ構造とすることを特徴とするガス分析用Jet-REMPI装置。

IPC (5)：

G01N 27/64 ,  H01J 49/10 ,  G01N 27/62 ,  H01J 49/40 ,  H01J 49/06

FI (5)：

G01N27/64 B ,  H01J49/10 ,  G01N27/62 K ,  H01J49/40 ,  H01J49/06

F-Term (20)：

2G041AA09 ,  2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041DA06 ,  2G041EA05 ,  2G041FA08 ,  2G041GA06 ,  2G041GA07 ,  2G041GA18 ,  2G041GA19 ,  2G041GA22 ,  2G041GA28 ,  2G041GA29 ,  2G041LA08 ,  5C038FF01 ,  5C038FF07 ,  5C038GG07 ,  5C038GH04 ,  5C038GH10 ,  5C038GH11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• ダイオキシン分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-020653   Applicant：三菱重工業株式会社
• ダイオキシン類分析装置及び燃焼制御システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-303438   Applicant：三菱重工業株式会社
• 高感度超音速分子ジェット多光子イオン化質量分析装置及びその高感度検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-139590   Applicant：科学技術振興事業団
• 高感度超音速分子ジェット多光子吸収イオン化質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-207261   Applicant：新日本製鐵株式会社, 株式会社日鐵テクノリサーチ, 科学技術振興事業団
• 高感度超音速分子ジェット多光子吸収イオン化質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-276927   Applicant：新日本製鐵株式会社, 科学技術振興事業団, 株式会社日鐵テクノリサーチ

Cited by examiner (6)

• 高感度超音速分子ジェット多光子吸収イオン化質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-276927   Applicant：新日本製鐵株式会社, 科学技術振興事業団, 株式会社日鐵テクノリサーチ
• 指向性かつ冷却されたガス噴流を発生させるためのガス入口
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-608407   Applicant：ゲーエスエフ-フォルシュングスツェントルムフュアウムヴェルトウントゲズントハイトゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-053150   Applicant：日本電子株式会社
• 光蓄積型レーザーイオン化質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-257696   Applicant：株式会社IDXテクノロジーズ, 鈴木康夫
• 高感度超音速分子ジェット多光子吸収イオン化質量分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-276672   Applicant：新日本製鐵株式会社, 科学技術振興事業団, 株式会社日鐵テクノリサーチ
• 高感度超音速分子ジェット多光子イオン化質量分析装置及びその高感度検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-139590   Applicant：科学技術振興事業団

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• “Scheme for collinear ionization in supersonic jet/multiphoton ionization/time-of-flight mass spect