ポジ型フォトレジスト組成物

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999273160
Publication number (International publication number)：2001100402
Application date： Sep. 27, 1999
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】波長が220nm以下の露光光源を使用する際、感度、解像度が著しく優れ、パターンプロファイルの形状が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】220nm以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)220nm以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 504 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025CB41 , 2H025CB52 , 2H025CB53 , 2H025CB55 , 2H025CC01 , 2H025CC04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-061479 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-056924 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-066074 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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