感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995349570
Publication number (International publication number)：1997179300
Application date： Dec. 22, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】調製後の感度変化が少なく、感度、解像度、パターン形状、プロセス安定性等を含めた特性バランスに優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】組成物は、(A)4-(1-エトキシエトキシ)スチレン10〜50モル%と4-ヒドロキシスチレン50〜90モル%との共重合体で代表されるアセタール基含有共重合体、(B)?@オニウム塩化合物および/または?Aスルホンイミド化合物で代表される感放射線性酸発生剤、並びに(C)酸拡散制御剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位(1)を全繰返し単位の10〜50モル%含有する共重合体、(B)?@オニウム塩化合物、?Aスルホンイミド化合物、?Bスルホン化合物、?Cスルホン酸エステル化合物、?Dキノンジアジド化合物および?Eジアゾメタン化合物の群から選ばれる感放射線性酸発生剤、並びに(C)酸拡散制御剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔式(1)において、R1は水素原子またはメチル基を示し、R2は炭素数1〜4のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、R3およびR4はそれぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜10のアリール基もしくは炭素数7〜11のアラルキル基を示すか、またはR3とR4とが結合して5〜7員環を形成しており、nは0〜4の整数である。〕

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

遠紫外線用レジスト組成物及びこれを用いた微細パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-083199 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-298995 Applicant：和光純薬工業株式会社
高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-090203 Applicant：信越化学工業株式会社

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