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J-GLOBAL ID：200903018058737641

プラズマ処理装置

Inventor：
後藤 真志

About 後藤 真志

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中田 行彦

About 中田 行彦

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東 和文

About 東 和文

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岡本 哲也

About 岡本 哲也


Applicant, Patent owner：
株式会社 液晶先端技術開発センター

About 株式会社 液晶先端技術開発センター


Agent (3)： 松永 宣行 ,  小合 宗一 ,  佐藤 玲太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003290428
Publication number (International publication number)：2004153240
Application date： Aug. 08, 2003
Publication date： May. 27, 2004
Summary：
【課題】 特定の形状を有する専用の容器を必要とすることなく、プラズマ生成容器内のプラズマ密度を均一化できるようにしたプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 プラズマ装置は、少なくとも1つの開口を有しプラズマが生成される容器(12)と、開口を気密に覆うように設けられた誘電性部材(14)と、容器の外部に一端側が誘電性部材に対向するように設けられた少なくとも1つの導波管(16)と、この導波管の他端側に設けられた電磁波源(20)と、導波管の誘電性部材との対向面に設けられた複数の穴(38、40、42、44、46、)と、穴の少なくとも1つの前記穴に該穴の開口面積を調整するように設けられた穴面積調整手段(18)とを含む。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
少なくとも1つの開口を有しプラズマが生成される容器と、 前記開口を気密に覆うように設けられた誘電性部材と、 前記容器の外部に一端側が前記誘電性部材に対向するように設けられた少なくとも1つの導波管と、 この導波管の他端側に設けられた電磁波源と、 前記導波管の前記誘電性部材との対向面に設けられた複数の穴と、 前記穴の少なくとも1つの前記穴に該穴の開口面積を調整するように設けられた穴面積調整手段と を含む、プラズマ処理装置。
IPC (6)：
H01L21/3065 ,  C23C16/511 ,  C23F4/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46
FI (6)：
H01L21/302 101D ,  C23C16/511 ,  C23F4/00 A ,  H01L21/304 645C ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 B
F-Term (22)：
4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  4K057DA16 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DE06 ,  4K057DM02 ,  4K057DM06 ,  4K057DM29 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F004CA09 ,  5F045AA08 ,  5F045BB01 ,  5F045EH03 ,  5F045EH19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-248767   Applicant：東京エレクトロン株式会社
Cited by examiner (6)
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