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J-GLOBAL ID:200903021635472580
断面加工装置及び断面評価方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山下 穣平
, 志村 博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003389358
Publication number (International publication number):2005148003
Application date: Nov. 19, 2003
Publication date: Jun. 09, 2005
Summary:
【課題】 試料の温度を調整した状態で断面を加工することのでき、かつ該加工部の情報を正確に取得することのできる加工部評価装置及び断面評価方法を提供すること。【解決手段】 試料の断面を加工するための装置であって、 該試料を載置するための載置台と、 該試料の温度を調整するための温度調整手段と、 該試料に対してビームを照射して該試料の加工を行うためのビーム発生手段と、 加工前に該載置台と該試料を搬送する前に該試料と該載置台を収納して密封するための密封手段と、を具備している断面加工装置、及び 試料の温度を調整する第1の工程と、 該試料にビームを照射して断面の切り出しを行う第2の工程と、 該温度制御された試料を密封する第3の工程と、 該密封された試料を他の装置へ搬送する第4の工程と、 該搬送された試料を前記他の装置を用いて評価を行う第5の工程と、を有する断面評価方法。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
試料の断面を加工するための装置であって、
該試料を載置するための載置台と、
該試料の温度を調整するための温度調整手段と、
該試料に対してビームを照射して該試料の加工を行うためのビーム発生手段と、
加工前に該載置台と該試料を搬送する前に該試料と該載置台を収納して密封するための密封手段と、
を具備していることを特徴とする断面加工装置。
IPC (4):
G01N1/32
, G01N1/28
, H01J37/20
, H01J37/31
FI (6):
G01N1/32 B
, H01J37/20 E
, H01J37/20 G
, H01J37/31
, G01N1/28 G
, G01N1/28 K
F-Term (14):
2G052AD32
, 2G052EC13
, 2G052EC14
, 2G052EC18
, 2G052HA17
, 2G052HC22
, 5C001AA01
, 5C001AA03
, 5C001AA04
, 5C001AA05
, 5C001BB02
, 5C001BB03
, 5C001CC08
, 5C001DD01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
金属筒体の樹脂成形体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-164675
Applicant:日本ケミコン株式会社
Cited by examiner (12)
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試料作製装置および試料作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-333681
Applicant:株式会社日立製作所
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情報取得装置、試料評価装置および試料評価方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-293517
Applicant:キヤノン株式会社
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電子顕微鏡のための超高傾斜試験片低温移送ホルダ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-539698
Applicant:ガタン・インコーポレーテッド
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特公昭58-005505
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試料ホルダ
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Application number:特願平11-014628
Applicant:日本電子株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-018419
Applicant:株式会社日立製作所
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-264067
Applicant:株式会社日立製作所
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集束イオンビーム装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-010684
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
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荷電粒子線装置用冷却システムおよびその使用法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-092172
Applicant:株式会社日立製作所
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Application number:特願2003-012284
Applicant:キヤノン株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-286936
Applicant:三星電子株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-210803
Applicant:株式会社日立製作所
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