Pat
J-GLOBAL ID：200903006110670650

酸感応性化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor：
中野 達也

About 中野 達也


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 鍬田 充生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999135623
Publication number (International publication number)：2000136165
Application date： May. 17, 1999
Publication date： May. 16, 2000
Summary：
【要約】【課題】 耐エッチング液性が高く、光照射により可溶化できるフォトレジスト用樹脂組成物により微細なパターンを形成する。【解決手段】 フォトレジスト用樹脂組成物は、下記式で表される酸感応性化合物の単位(アダマンタン骨格など)を有する重合体と、光酸発生剤とで構成されている。R1は、1-位に第3炭素原子を有するアルキル基であってもよく、環Zは、2〜4の環を含む架橋環式炭化水素環である。【化1】(式中、R1およびR2は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基、R3は水素原子又はメチル基、R4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、酸素含有基、アミノ基、又はN-置換アミノ基、環Zは単環又は多環式脂環族炭化水素環、nは1以上の整数を示す。但し、R4は同時に水素原子ではなく、nによって異なっていてもよい。式(1)において、R1又はR2は隣接する炭素原子とともに脂環式炭化水素環を形成してもよい。)
Claim (excerpt)：
下記式(1)又は(2)【化1】(式中、R1およびR2は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基、R3は水素原子又はメチル基、R4は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、酸素含有基、アミノ基又はN-置換アミノ基、nは1以上の整数を示す。但し、R4は同時に水素原子ではなく、nによって異なっていてもよい。環Zは単環又は多環式脂環族炭化水素環を示す。式(1)において、R1又はR2は隣接する炭素原子とともに脂環式炭化水素環を形成してもよい。)で表される酸感応性化合物。
IPC (7)：
C07C 69/54 ,  C07C 69/732 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (8)：
C07C 69/54 Z ,  C07C 69/54 B ,  C07C 69/732 Z ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
Show all
Cited by examiner (10)
Show all
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM