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J-GLOBAL ID：200903022622486805

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
中尾 元

About 中尾 元

, 
百田 淳

About 百田 淳


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004089084
Publication number (International publication number)：2004310082
Application date： Mar. 25, 2004
Publication date： Nov. 04, 2004
Summary：
【課題】 微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネスが小さく、疎又は密パターン、ライン又はトレンチパターンなど種々のパターンにおいてもデフォーカスラチチュードが広いポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)少なくとも一つのアクリル酸エステル誘導体の繰り返し単位を含有し、ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び、水酸基を有するアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、ガラス転移温度が70〜155°Cである酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一つと環状ケトンを含有する有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)少なくとも一つのアクリル酸エステル誘導体の繰り返し単位を含有し、一般式(IV)で表される繰り返し単位と一般式(V-1)〜(V-4)で表される基を有する繰り返し単位とから選ばれる少なくとも一つ、及び、一般式(AII)で表される繰り返し単位を含有する、ガラス転移温度が70〜155°Cである酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一つと環状ケトンを含有する混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
F-Term (15)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB60 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-074717   Applicant：ジェイエスアール株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-027408   Applicant：ジェイエスアール株式会社
  • ポジ型フォトレジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-321347   Applicant：富士写真フイルム株式会社
Cited by examiner (6)
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