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J-GLOBAL ID：200903073963670616

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

, 
児玉 邦彦

About 児玉 邦彦


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001048880
Publication number (International publication number)：2002251013
Application date： Feb. 23, 2001
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：
【要約】【課題】 ハーフトーン露光適性、ホールピッチ依存性、露光マージンが優れ、経時保存による感度変動を防止でき、またPED安定性が優れ、更に樹脂をオキサイドエッチングしたときの膜減り均一性についても優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の脂環ラクトン構造を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、特定の構造の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも2種、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(V-1)〜(V-4)のいずれかで表される基を有する繰り返し単位、及び他に脂肪族環状炭化水素基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、且つ(B)酸発生剤が、トリアリールスルフォニウム塩、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物及び芳香環を有さないスルホニウム塩の群から選択される少なくとも2種含有する混合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(V-1)〜(V-4)において、R1b〜R5bは、各々独立に水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1b〜R5bの内の2つは、結合して環を形成してもよい。
IPC (8)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/04 ,  C08F 32/08 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (8)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F 32/04 ,  C08F 32/08 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (43)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002BK001 ,  4J002EV296 ,  4J002FD146 ,  4J100AL08P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BA34P ,  4J100BA40P ,  4J100BA58P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA28 ,  4J100DA61 ,  4J100FA02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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