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J-GLOBAL ID：200903040754715216

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
百田 淳

About 百田 淳

, 
中尾 元

About 中尾 元


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004086206
Publication number (International publication number)：2004310075
Application date： Mar. 24, 2004
Publication date： Nov. 04, 2004
Summary：
【課題】サーマルフロー時のクラック発生が低減され、耐ドライエッチング性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)全繰り返し単位に対して、アクリル酸エステル誘導体に由来する繰り返し単位が50〜100モル%であり、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位及びモノヒドロキシアダマンタン構造若しくはジヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一種類の溶剤と環状ケトンを含有する混合溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)全繰り返し単位に対して、アクリル酸エステル誘導体に由来する繰り返し単位が50〜100モル%であり、一般式(IV)で表される繰り返し単位と一般式(V-1)〜(V-4)で表される基を有する繰り返し単位とから選ばれる少なくとも一種類の繰り返し単位及び一般式(AII)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、乳酸アルキル及び直鎖ケトンから選ばれる少なくとも一種類の溶剤と環状ケトンとを含有する混合溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/26 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (25)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL02P ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100BC26Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100DA61 ,  4J100HA53 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-074717   Applicant：ジェイエスアール株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-027408   Applicant：ジェイエスアール株式会社
  • ポジ型フォトレジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-321347   Applicant：富士写真フイルム株式会社
Cited by examiner (6)
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