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J-GLOBAL ID：200903023673001497

感放射線性樹脂組成物

Inventor： 石井 寛之 ,  西村 功 ,  中村 敦 ,  ウィリアム・アール・ブルーンズヴォールド ,  ウェンジー・リー ,  プシュカラ・ラーオ・ヴラナシー
Applicant, Patent owner： JSR株式会社 ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002162218
Publication number (International publication number)：2004012554
Application date： Jun. 03, 2002
Publication date： Jan. 15, 2004
Summary：

【課題】放射線に対する透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等を含めた幅広い特性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)トリフェニルスルホニウムビス(ノナフルオロ-n-ブタンスルホニル)イミデート、1-(4-n-ブトキシナフタレン-1-イル)テトラヒドロチオフェニウムビス(ノナフルオロ-n-ブタンスルホニル)イミデート、1-(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)テトラヒドロチオフェニウムトリス(ノナフルオロ-n-ブタンスルホニル)メタニド等で代表される感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の酸解離性基含有樹脂であって、該酸解離性基が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、並びに(B)下記一般式(1)または一般式(2)で表される感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F7/004 ,  C08F220/10 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/004 503A ,  C08F220/10 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (36)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16R ,  4J100BA40R ,  4J100BB18R ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC65P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-250452   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-112372   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• エネルギー活性なスルホニウム塩及びその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-360330   Applicant：住友化学工業株式会社
• スルホニウム塩及びその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-347574   Applicant：住友化学工業株式会社
• 光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-369145   Applicant：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト用光酸発生剤及びそれを含有するレジスト材料並びにパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-129876   Applicant：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-112257   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-361804   Applicant：東洋化成工業株式会社
• 超強酸オニウム塩化合物および感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-010910   Applicant：セントラル硝子株式会社