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J-GLOBAL ID：200903024811703240

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
河辺 保雅

About 河辺 保雅

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佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎

, 
西山 文之

About 西山 文之


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994285448
Publication number (International publication number)：1996146602
Application date： Nov. 18, 1994
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：
【要約】【目的】 半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、ドライエッチング耐性、とりわけ解像力、耐熱性に優れている。【構成】?@アルカリ可溶性樹脂、?Aキノンジアジド化合物及び?B特定のポリヒドロキシ化合物の少なくとも1種、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、及び一般式(I)または一般式(II)で表される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1〜R6は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、シクロアルキル基を表わし、少なくとも1つはシクロアルキル基を表わす。R7〜R10は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基を表わす。nは1〜4の整数を表す。【化2】式中、R11〜R18は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アシル基、シクロアルキル基を表わし、少なくとも1つはシクロアルキル基を表わす。R19〜R22は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基を表わす。Aは、単結合、又は次の式で表わされる基を表わす。【化3】式中、R23、R24は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基、アリール基を表わす。
IPC (2)：
G03F 7/022 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (12)
  • 特開平4-299348
  • ポジ型レジスト組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-178137   Applicant：住友化学工業株式会社
  • 特開平4-122938
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