Pat
J-GLOBAL ID:200903026334262450

半導体光センサ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊丹 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002281609
Publication number (International publication number):2004119713
Application date: Sep. 26, 2002
Publication date: Apr. 15, 2004
Summary:
【課題】迷光の影響を低減した高性能の半導体光センサ装置を提供する。【解決手段】半導体光センサ装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に絶縁膜により分離されて形成された半導体層と、前記半導体層の表面近傍に形成された第1のフォトダイオードと、前記半導体層の前記第1のフォトダイオードの下方に形成された第2のフォトダイオードと、前記半導体層に形成された、前記第1及び第2のフォトダイオードの出力信号を処理する信号処理回路とを有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
半導体基板と、 前記半導体基板上に絶縁膜により分離されて形成された半導体層と、 前記半導体層の表面近傍に形成された第1のフォトダイオードと、 前記半導体層の前記第1のフォトダイオードの下方に形成された第2のフォトダイオードと、 前記半導体層に形成された、前記第1及び第2のフォトダイオードの出力信号を処理する信号処理回路と、 を有することを特徴とする半導体光センサ装置。
IPC (3):
H01L31/10 ,  G01J1/02 ,  H01L27/146
FI (3):
H01L31/10 A ,  G01J1/02 S ,  H01L27/14 A
F-Term (32):
2G065AB04 ,  2G065BA09 ,  2G065BA32 ,  2G065BB25 ,  2G065BC02 ,  2G065CA08 ,  2G065DA20 ,  4M118AB04 ,  4M118AB10 ,  4M118BA02 ,  4M118CA02 ,  4M118CA22 ,  4M118CA25 ,  4M118CA27 ,  4M118CA32 ,  4M118FC09 ,  4M118FC14 ,  4M118FC15 ,  4M118FC18 ,  4M118FC20 ,  4M118GB03 ,  4M118GB11 ,  4M118GB15 ,  5F049MA01 ,  5F049MB03 ,  5F049NA04 ,  5F049NA10 ,  5F049QA03 ,  5F049QA07 ,  5F049QA15 ,  5F049RA06 ,  5F049SS01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (21)
Show all

Return to Previous Page