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J-GLOBAL ID：200903027792472908

グロープラズマ放電装置

Inventor： クンハード,エリッチ,イー ,  ベッカー,カート,エイチ
Applicant, Patent owner： トラスティーズ・オブ・ザ・スティーブンス・インスティテュート・オブ・テクノロジー
Agent (1)： 古谷 馨 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998540704
Publication number (International publication number)：2001527689
Application date： Mar. 17, 1998
Publication date： Dec. 25, 2001
Summary：

【要約】穿孔された誘電体(30)で蔽われた電極(20,40)を有するグロープラズマ放電装置が開示される。

Claim (excerpt)：

対面関係に位置された一対の電極; 電極の中の一つを蔽う様に置かれた穿孔誘電体;及び 電極間に発生された電界: を含むグロープラズマ放電を発生し且つ維持するための装置。

IPC (2)：

H05H 1/24 ,  H05H 1/46

FI (2)：

H05H 1/24 ,  H05H 1/46 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

• プラズマ処理方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-160915   Applicant：松下電工株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
• 高周波導入用窓材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-221299   Applicant：京セラ株式会社
• 静電チャック及びプラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-110762   Applicant：日電アネルバ株式会社
• プラズマ状態検出方法及びその装置、プラズマ制御方法及びその装置並びにエッチング終点検出方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-053672   Applicant：セイコーエプソン株式会社
• 静電チャック及びその作製方法並びに基板処理装置及び基板搬送装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-019462   Applicant：ソニー株式会社
• 特開昭62-218577
  
• 微細セラミックス構造体の形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-232825   Applicant：住友電気工業株式会社
• ハイブリッド回路
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-319892   Applicant：ベネディクト・ジー・ペース
• 大気圧プラズマ反応の利用方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-218035   Applicant：株式会社きもと, キモトテツクインコーポレイテツド, 岡崎幸子, 小駒益弘
• 大気圧プラズマによる表面処理法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-055701   Applicant：イーシー化学株式会社, 岡崎幸子, 小駒益弘
• 特表平7-503422
  
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-240876   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩