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J-GLOBAL ID:200903028832491583

開口作製装置及び開口作製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松下 義治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005182849
Publication number (International publication number):2007003309
Application date: Jun. 23, 2005
Publication date: Jan. 11, 2007
Summary:
【課題】押し開け開口法で形成された開口部に付着した遮光金属膜残滓を除去する方法において、作業工程に要する時間を少なくし、作業に必要となるコストを低減するための簡便な手段を提供することを目的とする。【解決手段】錐状のチップ101と、前記チップ101の近傍に配置され、ストッパー102と、少なくとも前記チップ101上に形成された遮光金属膜103を有する被開口形成体に対して、前記チップ101先端に光学的な開口108を形成した後に、金属膜109が被覆された板材107と前記チップ101および前記ストッパー102の少なくとも一部とを接触させ、遮光金属膜残滓201と金属膜109との界面に拡散層を形成し、その後互いを分離することで、開口108部表面に接着した遮光金属膜残滓201をチップ101先端から剥がすことを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
錐状に形成されたチップと、該チップの近傍に配置され、尾根状に形成されたストッパーと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光金属膜とからなる被開口形成体の前記チップ先端に光学的な開口を形成する開口作製装置であって、 前記チップ及び前記ストッパーの少なくとも一部を覆うように前記被開口形成体の上に載置され、且つ前記チップと対向する第1の面上に金属膜を有する板材と、該板材に設けられた前記金属膜と前記チップ先端に設けられた開口部とを接触させた後に、該開口部に残る前記遮光金属膜の残滓を前記金属膜に付着させて剥離除去する残滓除去手段とを有することを特徴とする開口作製装置。
IPC (3):
G01N 13/14 ,  G12B 21/06 ,  G11B 7/22
FI (3):
G01N13/14 B ,  G12B1/00 601C ,  G11B7/22
F-Term (7):
5D789AA11 ,  5D789AA22 ,  5D789AA38 ,  5D789CA06 ,  5D789CA22 ,  5D789JA66 ,  5D789NA05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 光学的な開口の作製方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-126415   Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
Cited by examiner (8)
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