(共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003276560
Publication number (International publication number)：2004051995
Application date： Jul. 18, 2003
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】波長250nm以下の光、特にArFエキシマレーザー光に対して高感度で、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物用樹脂およびレジスト組成物、レジスト組成物に適したこのような樹脂の製造方法、並びに、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。【解決手段】下記式(1)〜(3)【化1】(式中、a〜fはそれぞれ0〜2の整数を示し、R1〜R3は水素原子またはメチル基を示し、Z1〜Z3は炭素数10〜22の多環式炭化水素構造を示す。)で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を含む(共)重合体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)〜(3)

IPC (3)：

C08F20/28 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (3)：

C08F20/28 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (26)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA12 , 4J100AL08P , 4J100AL09P , 4J100BA11P , 4J100BC03P , 4J100BC07P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC15P , 4J100BC53P , 4J100BC55P , 4J100DA01 , 4J100DA36 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-012406 Applicant：住友化学工業株式会社
ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-188853 Applicant：日本電気株式会社

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Cited by examiner (4)

感放射線組成物およびパタン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-356969 Applicant：株式会社日立製作所
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-051811 Applicant：東京応化工業株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-128516 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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