Pat
J-GLOBAL ID:200903029853898795
マイクロベンチとその製造方法及びそれを用いた光半導体モジュール
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小松 秀岳 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000003578
Publication number (International publication number):2001196607
Application date: Jan. 12, 2000
Publication date: Jul. 19, 2001
Summary:
【要約】【課題】 高S/N比、高速、低コストな半導体モジュールを実現するためのマイクロベンチを製造、供給することを目的とする。【解決手段】 比抵抗が109Ω・cm以上であり、比誘電率が15以下の特性を有するセラミックスからなる基板であって、その表面に光ファイバーを搭載する溝が設けられ、該溝の突き当たり部には光半導体が搭載される半導体素子搭載部があり、該半導体素子搭載部には半導体搭載用の位置合わせマークが設けられていることを特徴とする光ファイバー搭載に用いるマイクロベンチである。前記セラミックスはAlNもしくはAlNを主成分とするものである。
Claim (excerpt):
比抵抗が109Ω・cm以上であり、比誘電率が15以下の特性を有するセラミックスからなる基板であって、その表面に光ファイバーを搭載する溝が設けられ、該溝の突き当たり部には光半導体が搭載される半導体素子搭載部があり、該半導体素子搭載部には半導体搭載用の位置合わせマークが設けられていることを特徴とする光ファイバー搭載に用いるマイクロベンチ。
IPC (5):
H01L 31/0232
, B28B 11/00
, C04B 35/581
, G02B 6/42
, H01S 5/022
FI (5):
G02B 6/42
, H01S 5/022
, H01L 31/02 C
, B28B 11/00 Z
, C04B 35/58 104 Y
F-Term (31):
2H037BA02
, 2H037BA11
, 2H037DA03
, 2H037DA04
, 2H037DA11
, 2H037DA12
, 4G001BA36
, 4G001BB36
, 4G001BC71
, 4G001BD03
, 4G001BD23
, 4G001BD36
, 4G055AA08
, 4G055AC01
, 4G055BA83
, 5F073AA64
, 5F073AB21
, 5F073DA35
, 5F073EA14
, 5F073EA27
, 5F073FA07
, 5F073FA15
, 5F073FA18
, 5F073FA23
, 5F088AA01
, 5F088BA02
, 5F088BA03
, 5F088EA06
, 5F088JA01
, 5F088JA03
, 5F088JA14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
-
光学素子保持部材及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-202377
Applicant:京セラ株式会社
-
静電チャック
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-350075
Applicant:京セラ株式会社
-
窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法並びに窒化アルミニウム回路基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-090823
Applicant:住友電気工業株式会社
-
光部品実装用基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-107490
Applicant:ホーヤ株式会社
-
表面実装モジュールとその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-249643
Applicant:古河電気工業株式会社
-
光半導体素子と光導波路の結合構造およびその結 合方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-184880
Applicant:日本電気株式会社
-
光素子モジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-290443
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
半田付け用セラミックスメタライズ基板、その製造方法およびセラミックス-金属接合体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-081636
Applicant:株式会社東芝
-
窒化けい素回路基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-238172
Applicant:株式会社東芝
-
耐熱衝撃性に優れたセラミックス-金属接合基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-350853
Applicant:同和鉱業株式会社
Show all
Return to Previous Page