光転写装置及び方法及びマスク及びその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：渡邉勇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999122370
Publication number (International publication number)：2000021770
Application date： Apr. 28, 1999
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】光の波長以下の微細な線幅の二次元的なパターンを、簡単な装置構成により、且つ経済的に転写が可能な光転写装置及び方法を提供する。【解決手段】導波路11と、該導波路11の一部に固定された近接場露光パターン12と、該導波路11に光線を供給する光源13,20とを備えた。

Claim (excerpt)：

導波路と、該導波路の一部に固定された近接場露光パターンと、該導波路に光線を供給する光源とを備えたことを特徴とする光転写装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 1/14 , G03F 7/20 502 , H01L 21/3065 , G21K 5/02

FI (7)：

H01L 21/30 502 D , G03F 1/14 Z , G03F 7/20 502 , G21K 5/02 Z , H01L 21/30 509 , H01L 21/30 531 A , H01L 21/302 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光露光または転写方法および装置またはそのためのマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-319781 Applicant：株式会社日立製作所
フォトマスクの製造方法およびフォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088271 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
リソグラフィ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-206087 Applicant：畑村洋太郎

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