Pat
J-GLOBAL ID:200903032292682772
表面増強振動分光分析用治具およびその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山下 穣平
, 永井 道雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007128268
Publication number (International publication number):2008281529
Application date: May. 14, 2007
Publication date: Nov. 20, 2008
Summary:
【課題】強度が微弱なラマン散乱光や赤外吸収を、感度よく測定できる表面増強振動分光分析用治具およびその製造方法を提供する。【解決手段】表面増強振動分光分析用の治具であって、基板と、該基板上に形成された下地膜と、該下地膜上に形成されたベースとを備え、前記ベースは、基板に対して垂直方向に形成された複数の細孔を有し、かつ、前記細孔の側面および前記ベースの表面には、金属微粒子が露出していることを特徴とする表面増強振動分光分析用治具。【選択図】図1
Claim (excerpt):
表面増強振動分光分析用の治具であって、
基板と、該基板上に形成された下地膜と、該下地膜上に形成されたベースとを備え、
前記ベースは、基板に対して垂直方向に形成された複数の細孔を有し、かつ、
前記細孔の側面および前記ベースの表面には、金属微粒子が露出していることを特徴とする表面増強振動分光分析用治具。
IPC (3):
G01N 21/65
, G01N 21/35
, G01N 21/27
FI (3):
G01N21/65
, G01N21/35 Z
, G01N21/27 C
F-Term (19):
2G043AA01
, 2G043BA14
, 2G043BA17
, 2G043CA04
, 2G043DA01
, 2G043EA03
, 2G043KA09
, 2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059CC12
, 2G059DD01
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE03
, 2G059EE12
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059JJ01
, 2G059JJ12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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微細構造体、微細構造体の作製方法、ラマン分光方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-411790
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
シリコン酸化物ナノ構造体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-363162
Applicant:キヤノン株式会社
-
細孔を有する構造体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-063540
Applicant:キヤノン株式会社
-
構造体、その製造方法、及び前記構造体を用いた電子デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-340820
Applicant:キヤノン株式会社
-
微細構造体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-055996
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
表面増強ラマン分光分析用治具及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-175105
Applicant:キヤノン株式会社
-
ナノ構造体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-063410
Applicant:財団法人電力中央研究所
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Cited by examiner (5)
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微細構造体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-055996
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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表面増強ラマン分光分析用治具及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-175105
Applicant:キヤノン株式会社
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細孔を有する構造体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-063540
Applicant:キヤノン株式会社
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