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J-GLOBAL ID：200903035559358723

容量結合型プラズマ発生装置

Inventor：
栗本 祐司

About 栗本 祐司

, 
森田 春雪

About 森田 春雪


Applicant, Patent owner：
シャープ株式会社

About シャープ株式会社


Agent (1)： 野河 信太郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999088942
Publication number (International publication number)：2000286198
Application date： Mar. 30, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：
【要約】【課題】 容量結合型プラズマ発生装置において、励起交流周波数を高周波化したときの共鳴周波数近傍でのインピーダンスの急激な変化及び電界分布の不均一を緩和し、高周波の導入を容易にすること。【解決手段】 反応ガスの導入を受けるチェンバー(5)と、このチェンバー中に配設された平行平板型の一対の電極(4・7)と、これらの電極に高周波電力を供給し、それによって反応ガス中に高周波プラズマを発生させる高周波電力供給部とを備え、一対の電極(4・7)が、その一方の電極(4)自体に共鳴周波数近傍におけるインピーダンスの急激な変化を緩和可能な抵抗要素を有している容量結合型プラズマ発生装置。
Claim (excerpt)：
反応ガスの導入を受けるチェンバーと、このチェンバー中に配設された平行平板型の一対の電極と、これらの電極に高周波電力を供給し、それによって反応ガス中に高周波プラズマを発生させる高周波電力供給部とを備え、一対の電極の少なくとも一方の電極自体、一対の電極の間、またはこれらの組み合わせに、共鳴周波数近傍におけるインピーダンスの急激な変化を緩和可能な抵抗要素を有することを特徴とする容量結合型プラズマ発生装置。
IPC (2)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (2)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
F-Term (13)：
5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB32 ,  5F004CA03 ,  5F004DA18 ,  5F004DB01 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045DP01 ,  5F045EH01 ,  5F045EH12 ,  5F045EH13 ,  5F045EH19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (3)

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