薄膜太陽電池製造システムおよび薄膜太陽電池製造システムにおける検査方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：藤田考晴 , 上田邦生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004041370
Publication number (International publication number)：2005235920
Application date： Feb. 18, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：

【課題】薄膜太陽電池の歩留まりを向上することができる薄膜太陽電池製造システムおよび薄膜太陽電池製造システムにおける検査方法を提供すること。【解決手段】基板に透明電極、アモルファスシリコン膜および裏面電極を製膜し、モジュール化した後パネル化する薄膜太陽電池製造システムにおいて、基板に設けられた個別マーカと、透明電極製膜後に連続的に基板の中間検査を行う透明電極検査装置70と、アモルファスシリコン膜製膜後に連続的に基板の中間検査を行うアモルファスシリコン膜検査装置71と、前記透明電極検査装置70およびアモルファスシリコン膜検査装置71による基板の検査結果を前記個別マーカに対応させて管理する品質管理装置とを備えている。個別マーカとしては、2次元バーコードによるIDマーカとする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板に透明電極、シリコン系薄膜および裏面電極を製膜し、モジュール化した後パネル化する薄膜太陽電池製造システムにおいて、基板に設けられた個別マーカと、透明電極製膜後に連続的に基板の中間検査を行う透明電極検査装置と、前記透明電極検査装置による基板の検査結果を前記個別マーカに対応させて管理する品質管理装置とを備えていることを特徴とする薄膜太陽電池製造システム。

IPC (1)：

H01L31/04

FI (2)：

H01L31/04 K , H01L31/04 B

F-Term (5)：

5F051AA05 , 5F051BA14 , 5F051CA15 , 5F051CA40 , 5F051KA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

光電変換装置の製造工程管理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-274907 Applicant：鐘淵化学工業株式会社
半導体の製造方法及びそのシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-092754 Applicant：株式会社東芝
透過膜厚計測装置及びそれを備えた製膜装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-257886 Applicant：三菱重工業株式会社

Cited by examiner (17)

光電変換装置の製造工程管理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-274907 Applicant：鐘淵化学工業株式会社
表示デバイス基板およびそれの生産方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-262900 Applicant：東レ株式会社
生産工程管理方法、およびID付基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-043007 Applicant：大日本印刷株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

太陽光発電, 19821105, 第1版, p.466-470
太陽光発電, 19821105, 第1版, p.466-470

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