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J-GLOBAL ID：200903038946700560

高信頼性・モジュラ製造高品質狭帯域高繰り返しレ-トArFエキシマレ-ザ

Inventor：
石原 俊彦

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トーマス ピー ダフィー

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ウィリアム エヌ パートロ

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リチャード エル サンドストローム

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Applicant, Patent owner：
サイマー インコーポレイテッド

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Agent (1)： 中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999177294
Publication number (International publication number)：2000077762
Application date： May. 20, 1999
Publication date： Mar. 14, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 1000乃至2000Hzの範囲において、10mJのレーザパルスを作り出すことができる、高信頼性、モジュラ、プロダクション、高品質エキシマレーザを提供する。【解決手段】交換可能なモジュールには、レーザチャンバ211、3つのモジュールを含むパルスパワーシステム、線狭帯域化モジュール206及び出力カプラモジュール216からなる光学共振器、ウェーブメータモジュール、電気的制御モジュール205、冷却水モジュール、及びガス制御モジュール202,205を含む。正確な電圧トリミングに関する電圧ブリードダウン回路を備える増加したキャパシティ高電圧電源208と、キャパシタから高電圧パルスを生成させ、単一の4つのセグメントのステンレススチールロッドからなる2次巻線を有する非常に早い電圧トランスで約23倍にパルス電圧を増幅する改良された整流子モジュール209とを含む。
Claim (excerpt)：
少なくとも約1000Hzの繰り返し数で狭帯域パルスレーザビームを生成するための非常に狭帯域の高信頼性・モジュラ製造高品質高繰り返し数ArFエキシマレーザであって、A.レーザチャンバを包含する迅速に交換可能なレーザチャンバモジュールとを有し、前記レーザチャンバモジュールが、1)2つの細長い電極と、2)a)アルゴンとb)フッ素と、c)不活性ガスと、からなるレーザガスと、3)少なくとも2cm/ミリ秒の速度で前記電極の間で前記ガスを循環させるためのガスサーキュレータと、を備え、B.少なくとも1つの迅速に交換可能なモジュールからなるモジュラーパルスパワーシステムとを有し、前記システムは、電源と、パルス圧縮及び増幅回路と、少なくとも約1000Hzの周波数で前記電極にわたって少なくとも14000ボルトの高電圧電気パルスを作り出すパルスパワー制御とを含み、C.前記レーザビームの波長をその0.6pm、FWHMより小さく制御するための迅速交換可能な線狭帯域阿モジュールとを有し、D.前記パルスパワーシステムによって提供される電圧を制御するためのレーザパルスエネルギ制御システムとを有し、前記制御システムは、レーザパルスエネルギモニタと、所望のエネルギ範囲内でパルスエネルギを有するレーザパルスを生成するのに必要な電気パルスを、歴史的なパルスエネルギデータに基づいて計算するためのアルゴリズムをプログラムされたコンピュータプロセッサとを含む、レーザ。
IPC (4)：
H01S 3/137 ,  H01S 3/036 ,  H01S 3/134 ,  H01S 3/225
FI (4)：
H01S 3/137 ,  H01S 3/134 ,  H01S 3/03 J ,  H01S 3/223 E
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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