感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004268137
Publication number (International publication number)：2006084660
Application date： Sep. 15, 2004
Publication date： Mar. 30, 2006
Summary：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、PEB温度依存性、ラインエッジラフネスが改善された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】特定構造の化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(I)又は(I')で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (1)：

G03F 7/004

FI (1)：

G03F7/004 503A

F-Term (12)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 4H006AA03 , 4H006AB78

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

フルオロカーボンアニオンを有するエネルギー活性塩
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-526859 Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-068850 Applicant：富士写真フイルム株式会社
新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-361804 Applicant：東洋化成工業株式会社

Cited by examiner (9)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-162218 Applicant：JSR株式会社, インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-416584 Applicant：東京応化工業株式会社
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-057448 Applicant：東京応化工業株式会社

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