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J-GLOBAL ID：200903019136037534

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

Inventor：
岩井 武

About 岩井 武

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久保田 尚孝

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藤村 悟史

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宮入 美和

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羽田 英夫

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Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

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Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005123977
Publication number (International publication number)：2005242382
Application date： Apr. 21, 2005
Publication date： Sep. 08, 2005
Summary：
【課題】エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネス、解像性、焦点深度幅が広いポジ型レジスト組成物とレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】 エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含み、前記(A)成分が、下記一般式(I’)で表される構成単位と、下記一般式(II’)で表される構成単位を両方有するポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、Rは水素原子またはメチル基であり、R1は低級アルキル基である。)【化2】(式中、Rは水素原子またはメチル基であり、R2及びR3は、それぞれ独立に、低級アルキル基である。)【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含み、前記(A)成分が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1')の一方あるいは両方を有し、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを、共に有するポジ型レジスト組成物であって、 前記(A)成分が、下記一般式(I’)で表される構成単位と、下記一般式(II’)で表される構成単位を両方有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  H01L21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  C08F220/18 ,  H01L21/30 502R
F-Term (27)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA39 ,  4J100JA46
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (7)
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