Pat
J-GLOBAL ID：200903040820319157
マスクパターン検証装置、その方法およびそのプログラムを記録した媒体
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998080905
Publication number (International publication number)：1999282151
Application date： Mar. 27, 1998
Publication date： Oct. 15, 1999
Summary：
【要約】【課題】 超解像技術によって生成されるマスクパターンの検証を容易に行なうことが可能なマスクパターン検証装置を提供すること。【解決手段】 マスクパターン検証装置は、半導体回路データからレイアウトデータを生成するための半導体回路レイアウト部21と、半導体回路レイアウト部21によって生成されたレイアウトデータのパターンをライン幅とスペース幅とを加えたピッチに基づいて検証するための超解像対応パターン検証部22と、超解像対応パターン検証部22によって検出されたピッチのエラー箇所の光学シミュレーションを行ない、光強度を出力するための光学シミュレーション部23と、光学シミュレーション部23によって出力された光強度に基づいてコンターを生成し、出力するためのコンター出力部24とを含む。
Claim (excerpt)：
半導体回路データからレイアウトデータを生成するためのレイアウト生成手段と、前記レイアウト生成手段によって生成されたレイアウトデータのパターンをライン幅とスペース幅とを加えたピッチに基づいて検証するためのパターン検証手段と、前記パターン検証手段によって検出されたピッチのエラー箇所の光学シミュレーションを行ない、光強度を出力するための光学シミュレーション手段と、前記光学シミュレーション手段によって出力された光強度に基づいてコンターを生成し、出力するためのコンター出力手段とを含むマスクパターン検証装置。
IPC (4)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 21/027
G03F 1/08 S
, G01B 11/24 C
, G01N 21/88 E
, H01L 21/30 502 V
Cited by examiner (8)
Show all
Return to Previous Page
