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J-GLOBAL ID：200903042781925438

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

Inventor：
高島 正伸

About 高島 正伸


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (3)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004105254
Publication number (International publication number)：2005292336
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：
【課題】 クッション層と感光層とを有し、405nmの光を照射する場合の該感光層の吸光度が一定の数値範囲であることにより、形成したパターンの形状に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上にクッション層と感光層とを少なくとも有し、該感光層に対して405nmの光を照射する場合の該感光層の吸光度が、0.05〜1であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えており、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。前記パターン形成材料における前記感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
支持体上にクッション層と感光層とを少なくとも有し、該感光層に対して405nmの光を照射する場合の該感光層の吸光度が、0.05〜1であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (4)：
G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26
FI (4)：
G03F7/004 512 ,  G03F7/11 502 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/26 501
F-Term (28)：
2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC45 ,  2H025BC83 ,  2H025BJ00 ,  2H025CA01 ,  2H025CA07 ,  2H025CA28 ,  2H025CA30 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025DA23 ,  2H025DA40 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H096AA26 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096CA16 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H097AA03 ,  2H097FA06 ,  2H097LA09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (15)
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